Kunden aus dem Elektronikbereich verlangen ein Höchstmaß an Sauberkeit. Flecken auf den produzierten Teilen und Verunreinigungen durch z.B. Silizium oder Phosphor während der Herstellungs- und Reinigungsprozesse müssen vermieden werden. Insbesondere bei EUV-Lithographieanlagen. EUV ist ein Photolithographieverfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV), so genannte extreme ultraviolette Strahlung (EUV), verwendet.
